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摘要：提出一种制作聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片的方法。用15%四甲基氢氧化铵溶液各向异性腐蚀硅(100)制作模具，然后经过浇模，中真空键合得到PDMS微流控芯片。整个过程耗时约10
h。用SEM和激光共焦显微成像系统观察整个制作过程。分析了硅片模具及PDMS微流控芯片图案的一致性及粗糙度，结果表明硅片模具图案的相对标准偏差低于3%，表面粗糙度Ra是0.051
μm，PDMS微流控芯片相应的分别是1%和0.183
μm。用PDMS微流控芯片进行电泳分离试验，分离场强200
V/cm，在4.7
cm长的分离通道中，30
s内成功分离了四苯磺酸基卟啉(TPPS)和羧基钴酞菁(TCPcCo(Ⅱ))的混合样品。
关键词：微流控芯片
制作
湿法腐蚀
硅(100)
聚二甲基硅氧烷
中图分类号：TN405 O657
福建省科技重点资助项目(2003H86)。20040921收到初稿，20050510收到修改稿
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