磁流变抛光的材料去除数学模型

彭小强  戴一帆  李圣怡

(国防科技大学机电工程与自动化学院  长沙  410073)

摘要：对磁流变抛光液在抛光区域的固态核分布进行了理论分析。在这基础上，以Preston方程为根据，即被加工工件表面材料去除率与压力参数p成正比的关系，该压力由磁化压力和流体动压力组成，建立磁流变抛光的材料去除数学模型。在自研的试验装置上利用磁流变抛光方法加工BK7平面镜工件，验证了数学模型的合理性。

关键词：磁流变抛光  Bingham流体  Preston方程  材料去除

中图分类号：TH164

国防预研资金资助项目(18YXGFKD25)。20030406收到初稿，20030909收到修改稿